激光雕刻加工中產(chǎn)生的煙塵異味除塵凈化設備
簡(jiǎn)要描述:激光雕刻加工中產(chǎn)生的煙塵異味除塵凈化設備錫焊廢氣過(guò)濾機煙霧凈化機該凈化機是專(zhuān)門(mén)為焊接煙霧,激光加工設備雕刻、打標、切割、等所產(chǎn)生廢氣的凈化而設計的。工廠(chǎng)焊煙收集處理smt環(huán)保設備
產(chǎn)品型號:
所屬分類(lèi):激光
更新時(shí)間:2023-10-29
廠(chǎng)商性質(zhì):生產(chǎn)廠(chǎng)家
激光雕刻加工中產(chǎn)生的煙塵異味除塵凈化設備
深圳市蔚南科技有限公司
蔚南科技有限公司屬于工貿一體,有自己專(zhuān)業(yè)的生產(chǎn)車(chē)間和職業(yè)+專(zhuān)業(yè)的銷(xiāo)售團隊,憑借自身鉆研的技術(shù)、先進(jìn)的生產(chǎn)工藝、嚴謹的對待健康的態(tài)度和不斷與時(shí)俱進(jìn)的創(chuàng )新理念,成功開(kāi)發(fā)了一系列的煙塵過(guò)濾系統,粉塵回收系統,金屬粉末收集系統,異味消除系統,有毒有害氣體凈化系統等,獲得了各界的認可與支持,我們的產(chǎn)品憑借性能穩定、吸力大、噪音小、操作方便、使用成本低、凈化效率高、節能省電、無(wú)需外排等特點(diǎn),深受?chē)鴥韧庥脩?hù)的青睞。
蔚南憑借自身鉆研的技術(shù)、先進(jìn)的生產(chǎn)工藝、嚴謹的對待健康的態(tài)度和不斷與時(shí)俱進(jìn)的創(chuàng )新理念,成功開(kāi)發(fā)了一系列的煙塵過(guò)濾系統,粉塵回收系統,金屬粉末收集系統,異味消除系統,有毒有害氣體凈化系統等,該系列產(chǎn)品憑借性能穩定、吸力大、噪音小、操作方便、使用成本低、凈化效率高、節能省電、無(wú)需外排等特點(diǎn),深受?chē)鴥韧庥脩?hù)的青睞。
在如今的先進(jìn)工業(yè)制造中,激光應用越來(lái)越廣泛,如激光焊接/錫焊、切割、打標、雕刻、清潔等,但人們對激光加工過(guò)程中產(chǎn)生的煙霧的危害性了解和重視還遠遠不夠,下面我們列舉不同的激光加工工藝中產(chǎn)生的一些副產(chǎn)物,僅供參考。希望廣大的激光設備操作者、EHS部門(mén)及管理部門(mén)、激光設備制造商等引起足夠的重視并采取有效的、持續的防護措施或建議。
1.1 金屬加工
在加工金屬時(shí)會(huì )產(chǎn)生重金屬蒸氣。這些蒸氣能傷害人體組織。從醫學(xué)觀(guān)察點(diǎn)來(lái)看,至少下列金屬及其化合物是有影響的:錳Mn,鉻Cr,鎳Ni,鈷Co,鋁Al,鋅Zn,銅Cu,鈹Be,鉛Pb,銻Sb。醫學(xué)方面的影響包括:
有毒 (Cr+6,Mn),
過(guò)敏反應(Zn,Cu),
肺纖維化(Be),
致癌 (Cr+6,NiO),等等。
1.2 塑料切割
在切割塑料時(shí)可能會(huì )產(chǎn)生各種各樣具有潛在危險的物質(zhì)。溫度比較低時(shí)產(chǎn)生脂肪族烴,而溫度較高時(shí)則會(huì )使芳香族烴(像苯,PAH)和多鹵多環(huán)類(lèi)烴(例如二氧芑,呋喃)增加。其中某些物質(zhì)可能產(chǎn)生異氰酸鹽(PU),丙烯酸鹽(PMMA),和氧化氫(PVC)。醫學(xué)方面的影響包括:
有毒:CO,苯的衍生物;
過(guò)敏源/刺激物:異氰酸鹽,丙烯酸鹽;
呼吸道刺激:甲苯、胺類(lèi);
致癌:苯,某些PAH物質(zhì)。
1.3 陶瓷加工
三氧化二鋁Al2O3,鎂Mg,鈣Ca與硅Si的氧化物;氧化鈹BeO(劇毒)。
1.4 硅片加工
浮在空氣中的硅Si及氧化硅的碎屑(可能吸進(jìn)肺葉,能引起矽肺?。?。
1.5 切割紙和木材
一般的纖維素副產(chǎn)物,酯類(lèi),酸類(lèi)、乙醇,苯等。
產(chǎn)品特點(diǎn)
★ 外觀(guān)剛硬有型,全金屬框架結構,能抵抗強力沖撞與振動(dòng);機身輕巧,便于移動(dòng)。
★ 安裝簡(jiǎn)單方便,有利于工作空間的整潔和美觀(guān)。
★凈化原理:
◆化學(xué)式: 利用特制的高能高臭氧UV紫外線(xiàn)光束照射有機氣體及空氣中的氧分子,裂解有機氣體的分子鍵,并分解空氣中的氧分子產(chǎn)生游離氧,即活性氧,UV+O2→O-+O*(活性氧)O+O2→O3(臭氧)。游離狀態(tài)的污染物分子與臭氧氧化結合成小分子無(wú)害或低害的化合物,如CO2、H2O等。從而達到凈化氣體的效果。
UV光氧凈化器反應工程式:
1、UV + 高分子有機物→低分子有機物
2、UV + 空氣( O2) →O3
3、低分子有機物+ O3→ CO2+ H2O +N2
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